設備功率

50(千瓦),380(伏)三相

壓縮空氣和(hé)冷(lěng)卻水(shuǐ)

0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分(fēn)鐘(zhōng)

靶源冷(lěng)卻25°C，腔體冷(lěng)卻35°C

真空抽氣系統

機械選片泵1台

分(fēn)子泵1台

200立方米/小時(shí)

2500升/秒

無負載系統極限真空 1.0x10-4帕

真空測量系統

低真空/電阻規/2路

高(gāo)真空/離子規/1路

鍍膜離子源和(hé)電源（電源可(kě)根據客戶需求自選）

磁控濺射源1套

離子束源2套     磁控濺射電源1套

離子束電源2套

偏壓電源1套

靶源尺寸664x85毫米

陽極層離子束

直流電源

高(gāo)壓直流脈沖電源

靶功率<10千瓦

有效工作電壓1500伏

電源功率10千瓦，占空比0~90%，頻(pín)率40千赫茲

工藝氣體

獨立2路，質量流量控制器MFC（可(kě)根據客戶需要增加獨立氣路）

工件轉架

2套、帶12個(gè)直徑120毫米可(kě)獨立轉動的(de)行星轉塔，可(kě)連同被鍍工件整體裝卸，轉速~10轉分(fēn)鐘(zhōng)，轉架尺寸直徑730毫米，承載重量350公斤

鍍膜機控制系統

PLC控制系統+工業PC/PLC

系統具備全自動，手動和(hé)維護3種操作模式

所以所有運行參數記錄于電腦(nǎo)之中供分(fēn)析查閱

開放式軟件界面，用(yòng)戶可(kě)自行開發工藝

塗層工藝

随機附送應用(yòng)于汽車零部件和(hé)工具上的(de)類金剛石(DLC)塗層工藝和(hé)輔助工藝