PVD(物(wù)理(lǐ)氣相沉積)優點與缺點

2021-04-19

物(wù)理(lǐ)氣相沉積( PVD ),有時(shí)(尤其是在單晶生長(cháng)環境中)稱爲物(wù)理(lǐ)氣相傳輸( PVT ),描述了(le)各種可(kě)用(yòng)于生産薄膜和(hé)塗層的(de)真空沉積方法。 PVD 的(de)特點是材料從凝相轉變爲氣相,然後又回到薄膜凝相的(de)過程。最常見的(de) PVD 工藝是濺射和(hé)蒸發。 PVD 用(yòng)于制造需要薄膜用(yòng)于機械、光(guāng)學、化(huà)學或電子功能。包括半導體設備,例如薄膜太陽能電池闆、用(yòng)于食品包裝和(hé)氣球的(de)鍍鋁PET膜、以及用(yòng)于金屬加工的(de)氮化(huà)钛塗層切削工具。除了(le)用(yòng)于制造的(de) PVD 工具外,還(hái)開發了(le)特殊的(de)小型工具(主要用(yòng)于科學目的(de))。

優點:

1、PVD 塗層有時(shí)比電鍍工藝應用(yòng)的(de)塗層更硬、更耐腐蝕。大(dà)多(duō)數塗料具有高(gāo)溫和(hé)良好的(de)沖擊強度、優異的(de)耐磨性,并且非常耐用(yòng),很少需要保護性面漆。

2、能夠在使用(yòng)各種飾面的(de)同樣多(duō)樣化(huà)的(de)基材和(hé)表面上使用(yòng)幾乎任何類型的(de)無機和(hé)一些有機塗層材料。

3、比電鍍、噴漆等傳統塗裝工藝更環保。

4、可(kě)以使用(yòng)不止一種技術來(lái)沉積給定的(de)薄膜。

缺點:

1、特定技術可(kě)能會施加限制;例如,視線轉移是大(dà)多(duō)數 PVD 塗層技術的(de)典型特征,但是,有些方法可(kě)以完全覆蓋複雜(zá)的(de)幾何形狀。

2、一些 PVD 技術通(tōng)常在非常高(gāo)的(de)溫度和(hé)真空下(xià)運行,需要操作人(rén)員(yuán)特别注意。

3、需要冷(lěng)卻水(shuǐ)系統來(lái)散發大(dà)量熱(rè)負荷。


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